Resonant metamaterials for contrast enhancement in optical lithography.
Resonant metamaterials for contrast enhancement in optical lithography.
复制标题
用于光学光刻对比度增强的谐振超材料
DOI：
10.1364/oe.20.019928
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
3.8
通讯作者：
U. Peschel
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
S. Dobmann;D. Shyroki;P. Banzer;A. Erdmann;U. Peschel
影响因子：
64.8
作者：
Ebbesen, TW;Lezec, HJ;Wolff, PA
通讯作者：
Wolff, PA
适用于 32 纳米及以上节点的新型不透明 MoSi 二元掩模坯料的光刻鉴定
影响因子：
2
作者：
G. McIntyre;M. Hibbs;J. Tirapu;G. Han;S. Halle;T. Faure;R. Deschner;B. Morgenfeld;Sridhar Ramaswamy;A. Wagner;T. Brunner;Yasutaka Kikuchi
通讯作者：
Yasutaka Kikuchi
影响因子：
2.1
作者：
Kindler, J.;Banzer, P.;Leuchs, G.
通讯作者：
Leuchs, G.