Amine-terminated nanoparticle films: pattern deposition by a simple nanostencilling technique and stability studies under X-ray irradiation.
Amine-terminated nanoparticle films: pattern deposition by a simple nanostencilling technique and stability studies under X-ray irradiation.
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胺封端纳米粒子薄膜：通过简单的纳米模板技术进行图案沉积以及 X 射线照射下的稳定性研究。
DOI：
10.1039/c3cp55344b
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Coxon PR
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Coxon PR
采用TEM栅格作为纳米模板，采用新型蒸发技术合成了氨基端硅纳米粒子（NH2-SiNPs）阵列薄膜。FTIR成像证明了该方法在纳米级器件制造应用中的可行性。在纳米颗粒材料的区域上进行微映射可以检查表面化学。FTIR成像显示微量氧化物局限于NP表面。用x射线光电子能谱（XPS）研究了在150 eV光子辐射下长时间暴露的纳米颗粒行为。在Si2p区域监测了XPS光谱，观察到在100.53 eV的初始峰值随着辐照的进行向更高的结合能转移，这表明薄膜内存在电荷捕获。这一结果对在x射线环境中使用NH2-SiNPs的应用具有潜在的影响，例如在生物成像中，电荷积累的增加与细胞毒性的增强有关。
Thin films made up of arrays of amine-terminated silicon nanoparticles (NH2-SiNPs) synthesized by a new evaporation technique have been formed by employing TEM grids as nanostencils. FTIR imaging illustrates the feasibility of the method in nanoscale device fabrication applications. Micro-mapping over areas of the nanoparticle material allows the surface chemistry to be examined. FTIR imaging shows trace amounts of oxide confined to the NP surfaces. Thicker films formed by dropcasting allowed the nanoparticle behaviour to be studied under conditions of extended exposure to 150 eV photons radiation by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The XPS spectrum was monitored over the Si2p region and the initial peak at 100.53 eV was observed to shift to higher binding energies as irradiation progressed which is indicative of charge trapping within the film. This result has potential consequences for applications where NH2-SiNPs are used in X-ray environments such as in bioimaging where the increasing charge buildup is related to enhanced cytotoxicity.
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DOI：
10.1088/0022-3727/44/49/495301
发表时间：
2011-12
期刊：
Journal of Physics D: Applied Physics
影响因子：
--
作者：
P. Coxon;Qi Wang;Y. Chao
通讯作者：
P. Coxon;Qi Wang;Y. Chao
十二烷基钝化硅纳米颗粒的热蒸发和 X 射线光稳定性
影响因子：
--
作者：
Coxon P
通讯作者：
Coxon P
影响因子：
3.3
作者：
Reboredo, FA;Galli, G
通讯作者：
Galli, G
通过 X 射线发光和 X 射线吸收光谱研究 DNA 修饰的硅纳米晶体：观察到强红外发光带
影响因子：
3.2
作者：
Coxon P
通讯作者：
Coxon P
InP 量子点的 NMR 研究：表面结构和尺寸效应
DOI：
--
发表时间：
1999
期刊：
影响因子：
--
作者：
M. Tomaselli;J. Yarger;M. Bruchez;R. Havlin;David deGraw;A. Pines;A. Alivisatos
通讯作者：
A. Alivisatos