C.Miyazaki: in preparation.
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C.宫崎：正在准备中。
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
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作者：
影响因子：
2.1
作者：
P. M. Leufke;A. Mishra;A. Beck;Di Wang;C. Kübel;R. Kruk;H. Hahn
通讯作者：
P. M. Leufke;A. Mishra;A. Beck;Di Wang;C. Kübel;R. Kruk;H. Hahn
影响因子：
3.3
作者：
Mishra, S. K.;Mazumdar, D.;Roy, S.
通讯作者：
Roy, S.
直流磁控溅射三层La0.67Sr0.33MnO3/La0.75MnO3/La0.67Sr0.33MnO3器件的制备及其巨磁阻
影响因子：
5.4
作者：
Honglin Li;Qianfeng Fang;Z. G. Zhu
通讯作者：
Z. G. Zhu