Stable, Extrinsic, Field Effect Passivation for Back Contact Silicon Solar Cells
Stable, Extrinsic, Field Effect Passivation for Back Contact Silicon Solar Cells
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背接触硅太阳能电池的稳定、外在场效应钝化
DOI：
10.4028/www.scientific.net/ssp.242.67
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Bonilla R
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Bonilla R
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影响因子：
3.2
作者：
Kho, Teng C.;Baker-Finch, Simeon C.;McIntosh, Keith R.
通讯作者：
McIntosh, Keith R.
n型直晶硅的稳定场效应表面钝化
DOI：
--
发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
--
作者：
R. S. Bonilla;P. Wilshaw
通讯作者：
P. Wilshaw
勘误：“用于硅表面钝化的 SiO2/SiNx 电介质双层中的电荷位置和稳定性”[J. Phys. 115, 144105 (2014)]
影响因子：
3.2
作者：
R. S. Bonilla;C. Reichel;M. Hermle;P. Wilshaw
通讯作者：
P. Wilshaw
硅表面钝化用SiO2/SiNx介质双层中电荷的位置和稳定性
影响因子：
3.2
作者：
R. S. Bonilla;C. Reichel;M. Hermle;P. Wilshaw
通讯作者：
P. Wilshaw
影响因子：
4
作者：
Bonilla, Ruy S.;Wilshaw, Peter R.
通讯作者：
Wilshaw, Peter R.