Sensitivity enhancement of a high-resolution negative-tone nonchemically amplified metal organic photoresist for extreme ultraviolet lithography
Sensitivity enhancement of a high-resolution negative-tone nonchemically amplified metal organic photoresist for extreme ultraviolet lithography
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用于极紫外光刻的高分辨率负性非化学放大金属有机光刻胶的灵敏度增强
DOI：
10.1117/1.jmm.21.4.041404
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Lewis S
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Lewis S
影响因子：
16.6
作者：
Lewis, Scott M.;Fernandez, Antonio;Winpenny, Richard E. P.
通讯作者：
Winpenny, Richard E. P.
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
R. Fallica;J. Haitjema;Lianjia Wu;S. Castellanos;A. Brouwer;Y. Ekinci
通讯作者：
Y. Ekinci