Three Dimensional Sculpturing of Vertical Nanowire Arrays by Conventional Photolithography
Three Dimensional Sculpturing of Vertical Nanowire Arrays by Conventional Photolithography
复制标题
通过传统光刻法三维雕刻垂直纳米线阵列
DOI：
10.1038/srep18886
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发表时间：
2016-01
影响因子：
4.6
通讯作者：
Chun Cheng
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Run Shi;Chengzi Huang;Linfei Zhang;Abbas Amini;Kai Liu;Yuan Shi;Shuhan Bao;Ning Wang;Chun Cheng
有序纳米结构由于其在器件中的应用前景，近年来引起了人们极大的研究兴趣。它们通常是通过自组装构建模块来制造的，例如纳米线、纳米点。这种自下而上的方法
Ordered nanoarchitectures have attracted an intense research interest recently because of their promising device applications. They are always fabricated by self-assembling building blocks such as nanowires, nanodots. This kind of bottom up approaches is
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通讯作者：
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Babak Nasr;Gursharan Chana;Ting Ting Lee-Ting;T. Nguyen;C. Abeyrathne;G. D'Abaco;M. Dottori;E. Skafidas
通讯作者：
Babak Nasr;Gursharan Chana;Ting Ting Lee-Ting;T. Nguyen;C. Abeyrathne;G. D'Abaco;M. Dottori;E. Skafidas
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Golberg, Dmitri