Contribution of phonon-drag effect to Seebeck coefficient of ultrathin Si-on-insulator layers
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声子拖曳效应对超薄绝缘体上硅层塞贝克系数的贡献
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
H. Ikeda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
F. Salleh;T. Oda;Y. Suzuki;Y. Kamakura;H. Ikeda
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Si反转层的声子阻力和扩散热电势
DOI：
10.1088/0953-8984/2/3/021
发表时间：
1990
期刊：
Journal of Physics: Condensed Matter
影响因子：
--
作者：
B. Gallagher;J. P. Oxley;T. Galloway;M. Smith;P. N. Butcher
通讯作者：
P. N. Butcher
载流子传输的基础：载流子散射
DOI：
10.1017/cbo9780511618611.005
发表时间：
2000
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
M. Lundstrom
通讯作者：
M. Lundstrom
影响因子：
3.7
作者：
JAYGERIN, JP
通讯作者：
JAYGERIN, JP
声子拖曳状态下 n 型硅热电势的定量研究
影响因子：
3.2
作者：
E. Behnen
通讯作者：
E. Behnen
影响因子：
3.2
作者：
LEE, TF;MCGILL, TC
通讯作者：
MCGILL, TC