Ultrahydrophobicity of ZnO modified CVD diamond films
Ultrahydrophobicity of ZnO modified CVD diamond films
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ZnO改性CVD金刚石薄膜的超疏水性
DOI：
10.1016/j.apsusc.2012.12.172
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发表时间：
2013-04
影响因子：
6.7
通讯作者：
Quan Lin
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
YiZhou Yang;ChuanXi Wang;HongDong Li;Quan Lin
通过在金刚石晶粒上溅射 ZnO 层构建分级结构，制备了具有超疏水表面的化学气相沉积 (CVD) 多晶金刚石薄膜，具有生长阶梯特征。在优化条件下，原始金刚石与ZnO阶梯结构的组合可实现高达141°±1°的水接触角（WCA）。证明WCA随着ZnO/PDF粗糙度的降低而降低。由此可见，金刚石晶粒的阶梯结构和ZnO晶核尺寸对WCA的变化有很大影响。
Chemical vapor deposited (CVD) polycrystalline diamond films with an ultrahydrophobic surface were fabricated by constructing a hierarchical structure through sputtering a ZnO layer on diamond grains, with a growth step feature. Under optimized conditions, the combined original diamond with a step structure of the ZnO can achieve a water contact angle (WCA) of as high as 141°±1°. It is proved that WCA decreases as the roughness of ZnO/PDF reduced. It can be concluded that the step structure of diamond grains and ZnO nuclei size have a great influence on the variation of WCA.
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DOI：
10.1016/s0927-7765(00)00163-6
发表时间：
2000-12
期刊：
Colloids and surfaces. B, Biointerfaces
影响因子：
--
作者：
Inoue;Yoshimura;Ikeda;Kohno
通讯作者：
Inoue;Yoshimura;Ikeda;Kohno
影响因子：
--
作者：
Shibuichi, S;Onda, T;Tsujii, K
通讯作者：
Tsujii, K
影响因子：
3.8
作者：
Limin Xiao;M. Grogan;William J. Wadsworth;R. England;Timothy A. Birks
通讯作者：
Limin Xiao;M. Grogan;William J. Wadsworth;R. England;Timothy A. Birks
反应压力对硼掺杂独立式金刚石薄膜沉积和性能的依赖性
影响因子：
6.7
作者：
Li, Liuan;Li, Hongdong;Zou, Guangtian
通讯作者：
Zou, Guangtian
影响因子：
4.6
作者：
S. Sepúlveda-Guzmán;B. Reeja‐Jayan;E. Rosa;A. Torres-Castro;V. González-González-V.-González-González-1399539544;M. José-Yacamán
通讯作者：
S. Sepúlveda-Guzmán;B. Reeja‐Jayan;E. Rosa;A. Torres-Castro;V. González-González-V.-González-González-1399539544;M. José-Yacamán