Micropore X-ray optics using an isotropic wet etching of (110) silicon wafers
Micropore X-ray optics using an isotropic wet etching of (110) silicon wafers
复制标题
使用 (110) 硅片各向同性湿法蚀刻的微孔 X 射线光学器件
DOI:
--
复制
发表时间:
2006
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
et al.
中科院分区:
文献类型:
--
作者:
Ezoe;et al.
登录
查看更多内容
DOI:
10.1117/12.670240
发表时间:
2005
期刊:
--
影响因子:
--
作者:
M. Bavdaz;D. Lumb;P. Gondoin;A. Lyngvi;N. Rando;T. Peacock;T. van der Laan;K. Wallace;A. Mieremet;S. Oemrawsingh;M. Beijersbergen;M. Collon;S. Kraft;R. Graue;D. Kampf;M. Freyberg
通讯作者:
M. Freyberg
DOI:
--
发表时间:
2005
期刊:
Optics for EUV, X-Ray, Gamma-Ray Astronomy II. Proceedings of the SPIE(Edited by Citterio, Oberto ; O'Dell, Stephen L.) 5900
影响因子:
--
作者:
Y.Ezoe;K.Mitsuda;M.Mita;M.Koshiishi;Y.Ishisaki;K.Shinozaki;A.Hoshino
通讯作者:
A.Hoshino
DOI:
10.1117/12.614939
发表时间:
2005
期刊:
--
影响因子:
--
作者:
K. Wallace;M. Collon;M. Bavdaz;M. Beijersbergen;R. Fairbend;J. Séguy;M. Hoffmann;M. Krumrey
通讯作者:
M. Krumrey
DOI:
10.1117/12.454217
发表时间:
2002
期刊:
--
影响因子:
--
作者:
G. Fraser;A. Brunton;N. Bannister;J. Pearson;M. Ward;T. Stevenson;D. Watson;B. Warwick;S. Whitehead;P. O'Brian;N. White;K. Jahoda;K. Black;S. Hunter;P. Deines;W. Priedhorsky;S. Brumby;K. Borozdin;T. Vestrand;A. Fabian;K. Nugent;A. Peele;T. H. K. Irving;S. Price;S. Eckersley;I. Renouf;Mark W. Smith;A. Parmar;I. McHardy;P. Uttley;A. Lawrence
通讯作者:
A. Lawrence
DOI:
10.1117/12.552935
发表时间:
2004
期刊:
--
影响因子:
--
作者:
M. Bavdaz;D. Lumb;A. Peacock;M. Beijersbergen;S. Kraft
通讯作者:
S. Kraft