Large-Scale Soft-Lithographic Patterning of Plasmonic Nanoparticles.
Large-Scale Soft-Lithographic Patterning of Plasmonic Nanoparticles.
复制标题
等离子体纳米粒子的大规模软光刻图案化。
DOI：
10.1021/acsmaterialslett.0c00535
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发表时间：
2021-03-01
影响因子：
11.4
通讯作者：
Weiss PS
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Chiang N;Scarabelli L;Vinnacombe-Willson GA;Pérez LA;Dore C;Mihi A;Jonas SJ;Weiss PS
等离子体纳米粒子的微米和纳米尺度图案化单层通过结合胶体化学、自组装和减影软光刻的概念来制造。利用预合成的金胶体的封端配体与聚二甲基硅氧烷印模之间的化学相互作用，我们展示了在厘米级区域上图案化具有各种微米和纳米级几何形状的金纳米颗粒，包括岛、线和手性结构（例如，方形螺旋）。通过成功实现对各种衬底和图案的纳米级操作，我们建立了一种强大而简单的策略，纳米颗粒化学剥离光刻（NP-CLL），用于以胶体纳米颗粒为构建块的功能等离子体材料的经济和可扩展的制造，为设计下一代等离子体技术提供了变革性的解决方案。
Micro- and nanoscale patterned monolayers of plasmonic nanoparticles were fabricated by combining concepts from colloidal chemistry, self-assembly, and subtractive soft lithography. Leveraging chemical interactions between the capping ligands of pre-synthesized gold colloids and a polydimethylsiloxane stamp, we demonstrated patterning gold nanoparticles over centimeter-scale areas with a variety of micro- and nanoscale geometries, including islands, lines, and chiral structures (e.g., square spirals). By successfully achieving nanoscale manipulation over a wide range of substrates and patterns, we establish a powerful and straightforward strategy, nanoparticle chemical lift-off lithography (NP-CLL), for the economical and scalable fabrication of functional plasmonic materials with colloidal nanoparticles as building blocks, offering a transformative solution for designing next-generation plasmonic technologies.
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作者：
Bagheri, Shahin;Giessen, Harald;Neubrech, Frank
通讯作者：
Neubrech, Frank
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Liz-Marzán LM
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作者：
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Truskett, Thomas M.
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Fery, Andreas