Asymmetric object substitution masking.
Asymmetric object substitution masking.
复制标题
非对称对象替换掩码。
DOI：
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发表时间：
2001
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Marvin M. Chun
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yuhong V. Jiang;Marvin M. Chun
当侧面掩蔽持续超过目标的持续时间时，物体替代掩蔽就会发生，这反映了视觉中的折返过程(V.Di Lollo，J.Enns，&R.Rensink，2000)。作者研究了替换掩蔽是否与位置有关，以及它是否围绕目标对称。一个简短的圆形字母展示，以及一个指定目标的面具。面罩位于目标的中心或与中心或外围成1.1度角。即使当目标和掩膜在不同的位置时，也发现了替换掩蔽。当掩膜位于靶点的周边侧时，其强度大于靶点的中心侧，且不对称。使用不同的掩膜观察到不对称取代。这不能用视网膜敏锐度梯度来解释，也不能通过集中注意力来减弱。作者认为，目标选择触发了一个不对称的抑制环境，该环境朝着目标的中心侧更强。
Object substitution masking occurs when a lateral mask persists beyond the duration of a target, reflecting reentrant processes in vision (V. Di Lollo, J. Enns, & R. Rensink, 2000). The authors studied whether substitution masking is location specific and whether it is symmetric around the target. A brief circular display of letters was presented along with a mask that designated the target. The mask was centered on the target or 1.1 degrees to the central or to the peripheral side. Substitution masking was found even when the target and the mask were at different locations. It was asymmetric and stronger when the mask was to the peripheral side of the target than to the central side. Asymmetric substitution was observed using various masks. It could not be explained by retina acuity gradients and was not attenuated by focused attention. The authors propose that target selection triggers an asymmetric inhibitory surround that is stronger toward the central side of the target.
影响因子：
3.7
作者：
Felleman, Daniel J.;Van Essen, David C.
通讯作者：
Van Essen, David C.
影响因子：
2.5
作者：
Luck, SJ;Chelazzi, L;Desimone, R
通讯作者：
Desimone, R
DOI：
10.1037/0096-1523.23.3.738
发表时间：
1997-06-01
影响因子：
2.1
作者：
Chun, MM
通讯作者：
Chun, MM