Atomic photoionization in combined intense XUV free-electron and infrared laser fields
Atomic photoionization in combined intense XUV free-electron and infrared laser fields
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强 XUV 自由电子和红外激光场组合中的原子光电离
DOI：
10.1088/1367-2630/14/4/043008
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发表时间：
2012-04
影响因子：
3.3
通讯作者：
Costello, J. T.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Meyer, M.;Arbeiter, M.;Li, W. B.;Duesterer, S.;Redlin, H.;Hayden, P.;Hough, P.;Richardson, V.;Costello, J. T.
我们提出了一个系统的研究，同时暴露在汉堡自由电子激光器（FLASH）的超短（20 fs）单色（1-2%光谱宽度）极紫外（XUV）辐射和强同步辐射下的稀有气体原子的光电离
We present a systematic study of the photoionization of noble gas atoms exposed simultaneously to ultrashort (20 fs) monochromatic (1–2% spectral width) extreme ultraviolet (XUV) radiation from the Free-electron Laser in Hamburg (FLASH) and to intense syn
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DOI：
10.1088/0953-4075/43/19/194006
发表时间：
2010-10
期刊：
Journal of Physics B: Atomic, Molecular and Optical Physics
影响因子：
--
作者：
Michael Meyer;John T Costello;S. Düsterer;W. B. Li;P. Radcliffe
通讯作者：
Michael Meyer;John T Costello;S. Düsterer;W. B. Li;P. Radcliffe
影响因子：
8.6
作者：
J. Schins;P. Breger;P. Agostini;R. Constantinescu;H. Muller;G. Grillon;A. Antonetti;A. Mysyrowicz
通讯作者：
J. Schins;P. Breger;P. Agostini;R. Constantinescu;H. Muller;G. Grillon;A. Antonetti;A. Mysyrowicz
影响因子：
35
作者：
Fruehling, Ulrike;Wieland, Marek;Drescher, Markus
通讯作者：
Drescher, Markus
影响因子：
6.3
作者：
Bauer, D;Koval, P
通讯作者：
Koval, P
DOI：
10.1088/0953-4075/45/9/092001
发表时间：
2012-04
期刊：
Journal of Physics B: Atomic, Molecular and Optical Physics
影响因子：
--
作者：
V. L. Sukhorukov;I. Petrov;M. Schäfer;F. Merkt;M. Ruf;H. Hotop
通讯作者：
V. L. Sukhorukov;I. Petrov;M. Schäfer;F. Merkt;M. Ruf;H. Hotop