Determination of the number densities of CH(X2Π) and CH(A2Δ) radicals in a DC cascaded arc discharge plasma
Determination of the number densities of CH(X2Π) and CH(A2Δ) radicals in a DC cascaded arc discharge plasma
复制标题
直流级联电弧放电等离子体中 CH((XI)-I-2 ) 和 CH(A(2)Delta) 自由基数密度的测定
DOI：
10.1007/s00340-015-6179-9
复制
发表时间：
2015-07
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Ding H.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Wang Y.;Wang Z.;Feng C.;Ding H.
利用光发射光谱（OES）和光腔衰荡光谱（CRDS）相结合的方法，在级联电弧等离子体反应器中同时测定了CH（A2Δ）和CH（X2 Δ）自由基的数密度。
A combination of optical emission spectroscopy (OES) and cavity ring-down spectroscopy (CRDS) has enabled to determinate the number densities of CH(A2Δ) and CH(X2Π) radicals simultaneously in a cascaded arc plasma reactor operating with a CH4/Ar mixture.
登录
查看更多内容
影响因子：
3.1
作者：
U. Fantz;S. Meir
通讯作者：
U. Fantz;S. Meir
影响因子：
3.2
作者：
Jie Ma;M. Ashfold;Y. Mankelevich
通讯作者：
Jie Ma;M. Ashfold;Y. Mankelevich
DOI：
10.1017/cbo9780511613630
发表时间：
1987-09
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
I. Hutchinson
通讯作者：
I. Hutchinson
影响因子：
3.2
作者：
J. Wills;James A. Smith;W. Boxford;Jmf Elks;M. Ashfold;A. Orr-Ewing
通讯作者：
J. Wills;James A. Smith;W. Boxford;Jmf Elks;M. Ashfold;A. Orr-Ewing
影响因子：
1.7
作者：
Li Cong;Zhang Jia-liang;Yao Zhi;W. Xingwei;Zhang Chenfei;Ding Hongbin
通讯作者：
Li Cong;Zhang Jia-liang;Yao Zhi;W. Xingwei;Zhang Chenfei;Ding Hongbin