Electron Bearn Lithography
Electron Bearn Lithography
复制标题
电子承载光刻
DOI：
10.1201/b11626-4
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发表时间：
2012
影响因子：
2.3
通讯作者：
S. Thoms
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
S. Thoms
与 III-V MOSFET 相关的光刻缩放问题
影响因子：
2.3
作者：
Ignatova O
通讯作者：
Ignatova O