Vertical-substrate epitaxial growth of single-crystal diamond by microwave plasma-assisted chemical vapor deposition
Vertical-substrate epitaxial growth of single-crystal diamond by microwave plasma-assisted chemical vapor deposition
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微波等离子体辅助化学气相沉积垂直基底外延生长单晶金刚石
DOI：
10.1016/j.jcrysgro.2018.01.024
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发表时间：
2018-03
影响因子：
1.8
通讯作者：
Jiaqi Zhu
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Guoyang Shu;Bing Dai;V.G. Ralchenko;A.P. Bolshakov;A.A. Khomich;E.E. Ashkinazi;V.Yu. Yurov;Kaili Yao;Kang Liu;Jiwen Zhao;Jiecai Han;Jiaqi Zhu
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影响因子：
11
作者：
Robert J. Williams;J. Nold;M. Strecker;O. Kitzler;A. Mckay;T. Schreiber;R. Mildren
通讯作者：
Robert J. Williams;J. Nold;M. Strecker;O. Kitzler;A. Mckay;T. Schreiber;R. Mildren
影响因子：
4.1
作者：
A. Tallaire;M. Lesik;V. Jacques;S. Pezzagna;V. Mille;O. Brinza;J. Meijer;B. Abel;J. Roch;A. Gicquel;J. Achard
通讯作者：
A. Tallaire;M. Lesik;V. Jacques;S. Pezzagna;V. Mille;O. Brinza;J. Meijer;B. Abel;J. Roch;A. Gicquel;J. Achard
DOI：
10.1002/pssa.201700177
发表时间：
2017-08
期刊：
physica status solidi (a)
影响因子：
--
作者：
V. Yurov;E. Bushuev;A. Bolshakov;E. Ashkinazi;I. Antonova;E. Zavedeev;A. Khomich;V. Voronov;V. Ralchenko
通讯作者：
V. Yurov;E. Bushuev;A. Bolshakov;E. Ashkinazi;I. Antonova;E. Zavedeev;A. Khomich;V. Voronov;V. Ralchenko
影响因子：
3.2
作者：
R. Gat;J. Angus
通讯作者：
R. Gat;J. Angus
影响因子：
3.2
作者：
Gayathri Shivkumar;Siva Sashank Tholeti;Majed A. Alrefae;T. Fisher;Alina A. Alexeenko
通讯作者：
Gayathri Shivkumar;Siva Sashank Tholeti;Majed A. Alrefae;T. Fisher;Alina A. Alexeenko