Epitaxial and non-epitaxial platinum, palladium and silver films on yttrium-stabilised zirconia
Epitaxial and non-epitaxial platinum, palladium and silver films on yttrium-stabilised zirconia
复制标题
钇稳定氧化锆上的外延和非外延铂、钯和银薄膜
DOI：
10.1016/j.matchemphys.2015.03.045
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发表时间：
2015
影响因子：
4.6
通讯作者：
R. Kmeth
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
G. Beck;C. Bachmann;R. Bretzler;R. Kmeth
采用脉冲激光沉积（PLD）技术在不同取向的YSZ（钇稳定氧化锆）基片上制备了铂、钯和银薄膜。铂的沉积温度为200 ℃和400 ℃，而钯和银仅在200 ℃下沉积。薄膜的微观结构取决于特定的金属、衬底的取向和沉积温度。在400 °C下沉积的铂形成单晶、外延（111）、（311）和（110）取向以及（111）取向的多晶膜。在200 °C下沉积的铂、钯和银总是形成（111）取向的多晶膜，在某些情况下还具有一部分外延生长的晶粒。基于界面能和表面能最小化以及结构区模型，对形成的微观结构进行了讨论。
Platinum, palladium and silver films have been prepared on differently orientated YSZ (yttrium-stabilised zirconia) substrates by PLD (pulsed laser deposition). The deposition temperatures for platinum were 200 °C and 400 °C, whereas palladium and silver were deposited only at 200 °C. The microstructure of the films depends on the particular metal, on the orientation of the substrate and on the deposition temperature. Platinum – deposited at 400 °C – forms single crystalline, epitaxial (111), (311) and (110) orientated as well as (111) orientated polycrystalline films. Platinum, palladium and silver – deposited at 200 °C – always form (111) orientated and polycrystalline films, in some cases also with a fraction of epitaxial grown grains. The formed microstructures were discussed on the basis of interface and surface energy minimization and structure zone models.
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