KEK Synchrotron radiation CDR
KEK Synchrotron radiation CDR
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KEK同步辐射CDR
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
KInebuchi M
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Matsuura A;KInebuchi M
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针对新型 3 GeV 光源的 HMBA 晶格优化
DOI：
10.18429/jacow-ipac2016-thpmb012
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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作者：
K. Harada;M. Adachi;Nobumasa Funamori;T. Honda;Yukinori Kobayashi;N. Nakamura;K. Oide;H. Sakai;S. Sakanaka;K. Tsuchiya
通讯作者：
K. Tsuchiya
KEK光源项目基于TM020模式和HOM耦合器的阻尼加速腔设计研究
DOI：
10.18429/jacow-ipac2017-thpik036
发表时间：
2017
期刊：
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影响因子：
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作者：
Takeshi Takahashi;S. Sakanaka;N. Yamamoto
通讯作者：
N. Yamamoto
Takeshi Sasaki：“在水溶液中使用脉冲激光烧蚀制造氧化物基纳米结构”应用物理 A. 正在出版。
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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作者：
通讯作者：
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KEK-LS 项目的 DQBA 晶格选项
DOI：
10.18429/jacow-ipac2017-wepab043
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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作者：
K. Harada;N. Higashi;S. Liuzzo;S. Nagahashi;N. Nakamura;S. Sakanaka;A. Ueda
通讯作者：
A. Ueda
ALS-U：软 X 射线衍射受限光源
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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作者：
C. Steier;A. Anders;J. Byrd;K. Chow;R. Duarte;Jin;T. Luo;H. Nishimura;T. Oliver;J. Osborn;H. Padmore;C. Pappas;S. Persichelli;D. Robin;F. Sannibale;S. Santis;R. Schlueter;Changchun Sun;C. Swenson;M. Venturini;W. Waldron;E. Wallén;W. Wan;Yuchen Yang
通讯作者：
Yuchen Yang