An ESDIAD study of chemisorbed hydrogen on clean and H-exposed Si(111)-(7 × 7)
An ESDIAD study of chemisorbed hydrogen on clean and H-exposed Si(111)-(7 × 7)
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ESDIAD 在清洁且暴露于 H 的 Si(111)-(7 × 7) 上化学吸附氢的研究
DOI：
10.1016/0039-6028(90)90613-d
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发表时间：
1990
期刊：
影响因子：
1.9
通讯作者：
J. Yates
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
R. Wallace;P. Taylor;W. J. Choyke;J. Yates
DOI：
10.1116/1.575980
发表时间：
1989-05-01
期刊：
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS
影响因子：
--
作者：
CHABAL, YJ;HIGASHI, GS;BURROWS, VA
通讯作者：
BURROWS, VA