Direct e-beam writing of 1 nm thin carbon nanoribbons
Direct e-beam writing of 1 nm thin carbon nanoribbons
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1 nm 薄碳纳米带的直接电子束写入
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
A. Gölzhäuser
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Christoph T. Nottbohm;A. Turchanin;A. Beyer;A. Gölzhäuser
在此基础上，制备了1 nm薄碳纳米带和碳纳米环。芳香族自组装单分子膜通过电子束光刻局部交联成聚合物碳纳米片。在1200 K的真空中退火，将这些电绝缘纳米片转化为导电的二维相，由石墨烯纳米片组成，片电导率为100 - 2Ssq。该方法允许将图案直接写入单层中，从而允许无抗蚀剂制造厚度为1 nm的任意尺寸和形状的碳纳米结构。
The fabrication of 1nm thin carbon nanoribbons and nanorings is demonstrated. Aromatic self-assembled monolayers are locally cross-linked by electron beam lithography into polymeric carbon nanosheets. Annealing at 1200K in ultrahigh vacuum transforms these electrically insulating nanosheets into a conducting two-dimensional phase consisting of nanopatches of graphene with a sheet conductivity of ∼10−2Ssq. The method allows the direct writing of patterns into the monolayer, permitting the resistless fabrication of arbitrarily sized and shaped carbon nanostructures with a thickness of 1nm.
影响因子：
4
作者：
Blake, P.;Hill, E. W.;Geim, A. K.
通讯作者：
Geim, A. K.