Unbalanced Magnetron Sputtering using Cylindrical Target for Low-temperature Optical Costing

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使用圆柱形靶材的不平衡磁控溅射进行低温光学成本计算

DOI:
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发表时间:
2005
期刊:
Jpn.J.Appl.Phys. 44・1B
影响因子:
--
通讯作者:
T.Hata
T.Hata
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
C.Wang;K.Sasaki;Y.Yonezawa;T.Hata

文献摘要

参考文献

被引文献

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DOI: 10.1016/s0040-6090(01)01552-8
发表时间: 2002
期刊:
影响因子: --
作者:
P. Reinig;V. Alex;F. Fenske;W. Fuhs;B. Selle
通讯作者: B. Selle