Unbalanced Magnetron Sputtering using Cylindrical Target for Low-temperature Optical Costing
Unbalanced Magnetron Sputtering using Cylindrical Target for Low-temperature Optical Costing
复制标题
使用圆柱形靶材的不平衡磁控溅射进行低温光学成本计算
DOI:
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发表时间:
2005
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
T.Hata
中科院分区:
文献类型:
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作者:
C.Wang;K.Sasaki;Y.Yonezawa;T.Hata
DOI:
10.1016/s0040-6090(01)01552-8
发表时间:
2002
期刊:
影响因子:
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作者:
P. Reinig;V. Alex;F. Fenske;W. Fuhs;B. Selle
通讯作者:
B. Selle