Potential Cause of Inhomogeneous Acid Distribution in Chemically Amplified Resists for Post Optical Lithography
Potential Cause of Inhomogeneous Acid Distribution in Chemically Amplified Resists for Post Optical Lithography
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用于后光学光刻的化学放大抗蚀剂中酸分布不均匀的潜在原因
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Komano
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Yamamoto;T. Kozawa;A. Nakano;K. Okamoto;S. Tagawa;T. Ando;M. Sato;H. Komano
化学放大电子束和X射线抗蚀剂的聚合物筛选方法
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics 43
影响因子：
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作者：
H.Yamamoto;A.Nakano;K.Okamoto;T.Kozawa;S.Tagawa
通讯作者：
S.Tagawa