Vertically-Curved Waveguide Fabrication Using Ion Implantation Method for Vertical Coupling
Vertically-Curved Waveguide Fabrication Using Ion Implantation Method for Vertical Coupling
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采用离子注入法垂直耦合的垂直弯曲波导制造
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y. Sakakibara
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Yoshida;R. Takei;S. Tajima;E. Omoda;N. Miura;M. Mori;Y. Sakakibara
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基于SiO2覆盖垂直弯曲硅波导的高性能表面光耦合器
DOI：
10.1109/ecoc.2018.8535523
发表时间：
2018
期刊：
2018 European Conference on Optical Communication (ECOC)
影响因子：
--
作者：
Y. Atsumi;Tomoya Yoshida;E. Omoda;Y. Sakakibara
通讯作者：
Y. Sakakibara
与 5 μm 模场直径光纤耦合的垂直弯曲硅表面光耦合器的制作
DOI：
10.1109/group4.2017.8082213
发表时间：
2017
期刊：
2017 IEEE 14th International Conference on Group IV Photonics (GFP)
影响因子：
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作者：
Y. Atsumi;Tomoya Yoshida;E. Omoda;Y. Sakakibara
通讯作者：
Y. Sakakibara
具有低损耗和平坦波长窗口的垂直弯曲硅波导耦合器
影响因子：
4.7
作者：
吉田 知也;面田 恵美子;渥美 裕樹;西 孝;田島 渉吾;三浦登;森 雅彦;榊原 陽一
通讯作者：
榊原 陽一
大象耦合器：垂直弯曲的硅波导，具有宽且平坦的波长窗口，对耦合角不敏感
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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作者：
T. Yoshida;E. Omoda;Y. Atsumi;M. Mori;Y. Sakakibara
通讯作者：
Y. Sakakibara