Vertically Curved Si Waveguide Coupler with Low Loss and Flat Wavelength Window
Vertically Curved Si Waveguide Coupler with Low Loss and Flat Wavelength Window
复制标题
具有低损耗和平坦波长窗口的垂直弯曲硅波导耦合器
DOI：
10.1109/jlt.2015.2506732
复制
发表时间：
2016
影响因子：
4.7
通讯作者：
榊原 陽一
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
吉田 知也;面田 恵美子;渥美 裕樹;西 孝;田島 渉吾;三浦登;森 雅彦;榊原 陽一
硅光子学使超小型光子集成电路成为可能，因此有必要开发高效的光耦合器，将硅波导与光纤或片外其他光学元件连接起来。垂直耦合器对于晶圆级测试和芯片表面光学元件的集成都很有前景，但到目前为止，光栅耦合器实际上是唯一的解决方案。最近，我们开发了一种几微米尺度的垂直弯曲硅波导耦合器“大象耦合器”，由离子注入法形成。结果表明，该耦合器具有高的耦合效率、较弱的波长依赖性和较弱的波长窗入射角依赖性，这是光栅耦合器所没有的。热退火处理可以减小离子注入引起的光传输损耗。
Silicon photonics enabling ultra-small photonic integrated circuits induces a necessity to develop efficient optical couplers that connect silicon waveguides with optical fibers or offchip other optical components. Vertical couplers are promising for both wafer-level testing and the integration of optical components on the chip surface, but so far grating couplers have been the only solution virtually. Very recently, we have developed a few-micron-scale vertically-curved silicon waveguide coupler “elephant coupler” formed by ion implantation method. This paper demonstrates that the coupler has high coupling efficiency, weak wavelength dependence, and weak incident angle dependence of wavelength window, which are not obtained by the grating couplers. The paper also demonstrates that the thermal annealing treatment can reduce optical propagation loss induced by the ion implantation.
登录
查看更多内容
使用双层薄膜增强场发射体阵列制造中的离子诱导弯曲现象
DOI：
10.1116/1.3276096
发表时间：
2010
期刊：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
影响因子：
--
作者：
Tomoya Yoshida;M. Nagao;S. Kanemaru
通讯作者：
S. Kanemaru
影响因子：
3.8
作者：
Roelkens, G.;Van Thourhout, D.;Smit, M.
通讯作者：
Smit, M.
DOI：
10.1143/jjap.49.056501
发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
--
作者：
Tomoya Yoshida;M. Nagao;S. Kanemaru
通讯作者：
S. Kanemaru
影响因子：
2.3
作者：
Tomoya Yoshida;M. Nagao;S. Kanemaru
通讯作者：
S. Kanemaru
通过经济高效且可扩展的封装实现光子学的大规模部署
DOI：
10.1109/group4.2015.7305910
发表时间：
2015
期刊：
2015 IEEE 12th International Conference on Group IV Photonics (GFP)
影响因子：
--
作者：
T. Barwicz;Y. Taira;Ted W. Lichoulas;N. Boyer;H. Numata;Y. Martin;J. Nah;S. Takenobu;Alexander Janta;E. Kimbrell;R. Leidy;M. Khater;S. Kamlapurkar;S. Engelmann;Y. Vlasov;P. Fortier
通讯作者：
P. Fortier