Evidence of refractive index change in glass substrates induced by high-density reactive ion plating deposition of SiO2 film
Evidence of refractive index change in glass substrates induced by high-density reactive ion plating deposition of SiO2 film
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高密度反应离子镀沉积 SiO2 膜引起玻璃基板折射率变化的证据
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.Yamaguchi.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J.Mistrik;I.Ohlidal;R.Antos;M.Aoyama;T.Yamaguchi.
后等离子体处理对SiF 4 和O 2 ECRCVD沉积SiOF薄膜可靠性和介电性能的影响
DOI：
10.1557/proc-476-291
发表时间：
1997
期刊：
MRS Proceedings
影响因子：
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作者：
Seoghyeong Lee;Jae;K. Oh;Jong
通讯作者：
Jong
飞秒光脉冲引起的等离子体自通道石英光纤折射率的不可恢复的变化
影响因子：
4
作者：
I. Park;H. Ju;A. Avilov;S. Choh;E. Koh;Sung;H. Kumagai;K. Midorikawa
通讯作者：
K. Midorikawa