Thickness uniformity and surface morphology of Fe, Ti, and Hf films produced by filtered pulsed cathodic arc deposition
Thickness uniformity and surface morphology of Fe, Ti, and Hf films produced by filtered pulsed cathodic arc deposition
复制标题
过滤脉冲阴极电弧沉积制备的 Fe、Ti 和 Hf 薄膜的厚度均匀性和表面形貌
DOI：
10.1016/j.surfcoat.2008.08.026
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发表时间：
2008-12
影响因子：
5.4
通讯作者：
Li, LH Lu, QY Fu, RKY Chu, PK
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Li, LH Lu, QY Fu, RKY Chu, PK
过滤脉冲阴极弧沉积产生的薄膜厚度通常可以从数十纳米到微米不等。由于等离子体约束在弯曲的管道中，这是经常用来消除有害的宏观颗粒和发散扩散的等离子体从出口，影响的膜的特性。在这项工作中，整个膜的厚度均匀性进行了调查和Fe，Ti和Hf膜的不同厚度的形态的变化进行了研究。具有约350 nm厚度的Fe和Ti膜的均方根（RMS）粗糙度值是相似的，而可以获得更平滑的Hf膜，这表明原子扩散除了沉积参数之外还起重要作用。
The thickness of films produced by filtered pulsed cathodic arc deposition can typically be varied from tens of nanometers to micrometers. Because of plasma confinement in the curved duct that is frequently used to eliminate deleterious macro-particles and divergent diffusion of the plasma from the exit, the characteristics of the films are affected. In this work, the thickness uniformity across the film is investigated and the variations in the morphologies of Fe, Ti, and Hf films with different thicknesses are studied. The root-mean-square (RMS) roughness values of the Fe and Ti films with a thickness of around 350 nm are similar whereas much smoother Hf films can be obtained, suggesting that atomic diffusion plays an important role in addition to the deposition parameters.
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DOI：
10.1524/zpch.1996.193.part_1_2.218a
发表时间：
1996
期刊：
Zeitschrift für Physikalische Chemie
影响因子：
--
作者：
G. Vojta
通讯作者：
G. Vojta
影响因子：
1.5
作者：
Eungsun Byon;Jong-Kuk Kim;Sik-Chol Kwon;A. Anders
通讯作者：
Eungsun Byon;Jong-Kuk Kim;Sik-Chol Kwon;A. Anders
影响因子：
1.6
作者：
F. Family
通讯作者：
F. Family
DOI：
10.1063/1.2808215
发表时间：
1995
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
A. Barabási;H. Stanley;L. Sander
通讯作者：
A. Barabási;H. Stanley;L. Sander
影响因子：
56.9
作者：
M. Moseler;P. Gumbsch;C. Casiraghi;A. Ferrari;J. Robertson
通讯作者：
M. Moseler;P. Gumbsch;C. Casiraghi;A. Ferrari;J. Robertson