Silicon film formation by chemical transport in atmospheric-pressure pure hydrogen plasma
Silicon film formation by chemical transport in atmospheric-pressure pure hydrogen plasma
复制标题
大气压纯氢等离子体中化学输运形成硅膜
DOI：
10.1063/1.2753675
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发表时间：
2007
影响因子：
3.2
通讯作者：
K. Yasutake
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Ohmi;H. Kakiuchi;Yoshinori Hamaoka;K. Yasutake
低温（93%）硅固源制备多晶硅（poly-Si）薄膜在各个领域都实现了...
To prepare polycrystalline silicon (poly-Si) films at low temperatures ( 93%) of Si solid source was realized in every c...
H_2/He或H_2/Ar混合物中常压等离子体处理非晶硅低温晶化
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
The proceedings of the 6th ICRP and 23rd SSP (Matsushima/Sendai)
影响因子：
--
作者：
Hiromasa Ohmi;Hiroaki Kakuuchi;Kenichi Nishijima;Heiji Watanabe;Kiyoshi Yasutake
通讯作者：
Kiyoshi Yasutake