Structure and haemocompatibility of ZnO films deposited by radio frequency sputtering
Structure and haemocompatibility of ZnO films deposited by radio frequency sputtering
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射频溅射沉积ZnO薄膜的结构和血液相容性
DOI：
10.1088/1748-6041/4/5/055004
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发表时间：
2009-09
影响因子：
4
通讯作者：
Jia-Ying Ye, Zhan-Yun Huang, Chen Min, Shi-Ron
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Jia-Ying Ye, Zhan-Yun Huang, Chen Min, Shi-Ron
首先使用射频溅射在硅和玻璃衬底上沉积ZnO薄膜，然后在300至700 °C的不同温度下在空气中退火。采用透射电镜对ZnO薄膜的微观结构、表面能和光学性质进行了研究。
ZnO films were first deposited on silicon and glass substrates using radio frequency sputtering and then annealed in air at different temperatures from 300 to 700 °C. The microstructures, surface energy and optical properties of ZnO films were examined by
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DOI：
10.1016/j.saa.2008.03.032
发表时间：
2008-12-15
影响因子：
4.4
作者：
Ben Yahia, S.;Znaidi, L.;Petitet, J. P.
通讯作者：
Petitet, J. P.
影响因子：
2.1
作者：
T. Tansley;D. Neely
通讯作者：
T. Tansley;D. Neely
影响因子：
29.4
作者：
Qianwang Chen;Xiaoguang Li;Yuheng Zhang;Y. Qian
通讯作者：
Qianwang Chen;Xiaoguang Li;Yuheng Zhang;Y. Qian
DOI：
10.1017/cbo9781139170383
发表时间：
1992-10
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
A. Putnis
通讯作者：
A. Putnis
影响因子：
14
作者：
T. Okpalugo;A. Ogwu;P. Maguire;J. McLaughlin
通讯作者：
T. Okpalugo;A. Ogwu;P. Maguire;J. McLaughlin