Surface structure and electrical properties of Ag based low emissivity film by vacuum magnetron sputtering
Surface structure and electrical properties of Ag based low emissivity film by vacuum magnetron sputtering
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真空磁控溅射银基低辐射薄膜的表面结构及电学性能
DOI：
10.1179/1743294411y.0000000062
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发表时间：
2012-04
影响因子：
2.8
通讯作者：
Zhang, F. C.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Yang, J. K.;Zhao, H. L.;Li, Y. X.;Dong, L. Z.;Li, C.;Zhang, F. C.
基于Ag的低发射膜通过真空磁子溅射沉积在玻璃上，然后在650–700°C的玻璃回火炉中进行了处理，分别研究了4、5和6分钟。
Ag based low emissivity film was deposited on glass by vacuum magnetron sputtering and then post-treated in the glass tempering tempering furnace at 650–700°C for 4, 5 and 6 min respectively. The structural and electrical properties have been investigated
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影响因子：
2.1
作者：
J. Szczyrbowski;G. Bräuer;M. Ruske;H. Schilling;Anton Zmelty
通讯作者：
J. Szczyrbowski;G. Bräuer;M. Ruske;H. Schilling;Anton Zmelty
DOI：
10.1017/cbo9781139207249.009
发表时间：
2012
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
W. Marsden
通讯作者：
W. Marsden
影响因子：
4
作者：
Kazuhiro Kato;Hideo Omoto;A. Takamatsu
通讯作者：
Kazuhiro Kato;Hideo Omoto;A. Takamatsu
影响因子：
2.1
作者：
J. J. Finley-J.
通讯作者：
J. J. Finley-J.
DOI：
10.1116/1.1384562
发表时间：
2001-09
期刊：
Journal of Vacuum Science and Technology
影响因子：
--
作者：
R. Martín-Palma;L. Vázquez;J. M. Martínez-Duart
通讯作者：
R. Martín-Palma;L. Vázquez;J. M. Martínez-Duart