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Processes Occurring During Film Growth By Reactive and Bias Sputter Deposition

Processes Occurring During Film Growth By Reactive and Bias Sputter Deposition
通过反应和偏压溅射沉积进行薄膜生长过程中发生的过程
批准号：
7620640
负责人：
Joseph Greene
金额：
$3.11万
依托单位：
University of Illinois at Urbana-Champaign
依托单位国家：
美国
项目类别：
Standard Grant
财政年份：
1976
资助国家：
美国
项目状态：
已结题
起止时间：
1976-10-01 至 1978-03-31
来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=7620640&HistoricalAwards=false
关键词：
ProcessesOccurringDuringFilmGrowth

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