Research Initiation: Electrical Double Layer Structure at High Faradaic Current Densities
研究启动:高法拉第电流密度下的双电层结构
基本信息
- 批准号:8204969
- 负责人:
- 金额:$ 4.8万
- 依托单位:
- 依托单位国家:美国
- 项目类别:Standard Grant
- 财政年份:1982
- 资助国家:美国
- 起止时间:1982-05-01 至 1984-10-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
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