课题基金 / 基金详情

Research Initiation: Simultaneous Formation of Polycide Interconnects, Silicide Contacts, and Shallow P-N Junctions by Ion Beam Mixing and Rapid Thermal Annealing

Research Initiation: Simultaneous Formation of Polycide Interconnects, Silicide Contacts, and Shallow P-N Junctions by Ion Beam Mixing and Rapid Thermal Annealing
研究启动：通过离子束混合和快速热退火同时形成多晶硅化物互连、硅化物接触和浅 P-N 结
批准号：
8404632
负责人：
Dim-Lee Kwong
金额：
$1.2万
依托单位：
University of Notre Dame
依托单位国家：
美国
项目类别：
Standard Grant
财政年份：
1984
资助国家：
美国
项目状态：
已结题
起止时间：
1984-06-01 至 1986-11-30
来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=8404632&HistoricalAwards=false
关键词：
ResearchInitiationSimultaneousFormationPolycide

项目摘要

项目成果

Dim-Lee Kwong的其他基金

相似基金

相关文献

中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
Research Initiation: Simultaneous Formation of Polycide Interconnects, Silicide Contacts, and Shallow P-N Junctions by Ion Beam Mixing and Rapid Thermal Annealing
  • 批准号：
    8596003
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $3.6万
  • 财政年份：
    1986
  • 负责人：
    Dim-Lee Kwong
  • 依托单位：
    University of Notre Dame
海外基金