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Engineering Research Equipment Grant: Phosphides by MBE
工程研究设备补助金：MBE 磷化物
基本信息
- 批准号：8506866
- 负责人：
- 金额：$ 7.6万
- 依托单位：
- 依托单位国家：美国
- 项目类别：Standard Grant
- 财政年份：1985
- 资助国家：美国
- 起止时间：1985-09-01 至 1986-08-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
A molecular beam epitaxy (MBE) system will be purchased and used to grow phosphides of the III-V semiconductor family. A new research program in MBE will concentrate on the growth and characterization of heterojunction structures employing thin epitaxial films of the phosphides InP, InGaP, and InA1P. The resulting heterostructures will provide an opportunity for study of unique heterojunction band structures as well as applications to devices requiring III-V phosphide layers.
将购买一套分子束外延（MBE）系统， 生长III-V族半导体的磷化物。 一个新的研究 在MBE计划将集中在增长和表征 异质结结构，其采用本发明的薄外延膜。 磷化物InP、InGaP和InAlP。 所得到的异质结构将 为研究独特异质结带提供了机会 结构以及需要III-V族磷化物的器件的应用 层次。
项目成果
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专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
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