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Advanced Dielectric Cap for III-V Ion Implantation (Materials Research)

Advanced Dielectric Cap for III-V Ion Implantation (Materials Research)
用于 III-V 离子注入的先进介电帽（材料研究）
批准号：
8660841
负责人：
Robert Fairman
金额：
$4.0万
依托单位：
MICROWAVE MONOLITHICS INC
依托单位国家：
美国
项目类别：
Standard Grant
财政年份：
1987
资助国家：
美国
项目状态：
已结题
起止时间：
1987-02-01 至 1987-07-31
来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=8660841&HistoricalAwards=false
关键词：
AdvancedDielectricCapIIIIon

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RUI: Aggregation and Colonization Mediated by Bacterial Surface Factors
  • 批准号：
    1329248
  • 项目类别：
    Continuing Grant
  • 资助金额：
    $53.62万
  • 财政年份：
    2013
  • 负责人：
    Robert Fairman
  • 依托单位：
    Haverford College
RUI: The chemical basis for protein self-assembly and polymerization
  • 批准号：
    1243656
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $49.25万
  • 财政年份：
    2013
  • 负责人：
    Robert Fairman
  • 依托单位：
    Haverford College
MRI: Acquisition of molecular and cellular imaging instrumentation.
  • 批准号：
    0922653
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $99.63万
  • 财政年份：
    2009
  • 负责人：
    Robert Fairman
  • 依托单位：
    Haverford College
RUI: The Chemical Basis for Protein Self-assembly and Polymerization
  • 批准号：
    0818421
  • 项目类别：
    Continuing Grant
  • 资助金额：
    $50.82万
  • 财政年份：
    2008
  • 负责人：
    Robert Fairman
  • 依托单位：
    Haverford College
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