课题基金 / 基金详情

Research Initiation Award: Cooper For Microelectronics Applications By Low-Temperature MOCVD (LTMOCVD) Processes

Research Initiation Award: Cooper For Microelectronics Applications By Low-Temperature MOCVD (LTMOCVD) Processes
研究启动奖：Cooper 低温 MOCVD (LTMOCVD) 工艺微电子应用
批准号：
9010661
负责人：
Alain Kaloyeros
金额：
$7.0万
依托单位：
SUNY at Albany
依托单位国家：
美国
项目类别：
Standard Grant
财政年份：
1990
资助国家：
美国
项目状态：
已结题
起止时间：
1990-07-01 至 1992-06-30
来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=9010661&HistoricalAwards=false
关键词：
ResearchInitiationAwardCooperMicroelectronics

项目摘要

项目成果

Alain Kaloyeros的其他基金

相似基金

相关文献

中文摘要
翻译
提出了一项用于新一代电子器件的铜膜生长、表征和测试的研究计划。该方法侧重于CVD过程，该过程使用在低至150摄氏度的温度下分解的蒸汽前体。该过程被称为“低温金属-有机CVD”，或LTMOCVD。
英文摘要
A research program for the growth, characterization and testing of copper films for applications in the new generations of electronic devices is proposed. The approach focuses on a CVD process which employs vapor precursors which dissociate at temperatures as low as 150'C. The process is "Low Temperature Metal-Organic CVD," or LTMOCVD.
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
Presidential Young Investigator Award
  • 批准号：
    9157011
  • 项目类别：
    Continuing Grant
  • 资助金额：
    $31.25万
  • 财政年份：
    1991
  • 负责人：
    Alain Kaloyeros
  • 依托单位：
    SUNY at Albany
海外基金