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NSF Young Investigator
NSF 青年研究员
基本信息
- 批准号：9357614
- 负责人：
- 金额：$ 37.38万
- 依托单位：
- 依托单位国家：美国
- 项目类别：Continuing Grant
- 财政年份：1993
- 资助国家：美国
- 起止时间：1993-08-15 至 1999-06-30
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
9357614 Schlom This research involves the synthesis of oxide multilayers uniquely suited to investigate solid state phenomena vital to the development of integrated microelectronic devices utilizing the extraordinary properties of oxides. Molecular beam epitaxy will be used to grow epitaxial stacks of oxide superconductors, ferroelectrics, ferromagnets, etc. with unit cell layering precision. ***
9357614 Schlom这项研究涉及氧化物多层膜的合成，该多层膜独特地适合于研究对利用氧化物的非凡特性开发集成微电子器件至关重要的固态现象。分子束外延将用于生长氧化物超导体、铁电体、铁磁体等的外延堆叠，具有单位单元分层精度。 ***
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
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- 作者：
Yaoqiao Hu;Darrell Schlom;Suman Datta;Kyeongjae Cho - 通讯作者：
Kyeongjae Cho
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