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SBIR Phase I: Hybrid holographic lithography for cost-effective fabrication of nanostructures

SBIR Phase I: Hybrid holographic lithography for cost-effective fabrication of nanostructures
SBIR 第一阶段：用于经济高效地制造纳米结构的混合全息光刻
批准号：
0945327
负责人：
Lin Pang
金额：
$15.0万
依托单位：
Electrooptic Technologies and Application Systems
依托单位国家：
美国
项目类别：
Standard Grant
财政年份：
2010
资助国家：
美国
项目状态：
已结题
起止时间：
2010-01-01 至 2010-06-30
来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=0945327&HistoricalAwards=false
关键词：
SBIRPhaseHybridholographiclithography

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This Small Business Innovation Research Phase I project is to demonstrate a novel nanolithography process, i.e. Hybrid Holographic Lithography (HHL) combining interferometric optical lithography with a Spatial Light Modulator (SLM) imaging technique to enable maskless pattern generation. If successful, the new lithographic method will provide a cost effective means of generating nanostructures that can be applied in many fields.
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Baryogenesis, Dark Matter and Nanohertz Gravitational Waves from a Dark Supercooled Phase Transition
  • 批准号：
    24ZR1429700
  • 项目类别：
    省市级项目
  • 资助金额：
    --
  • 批准年份：
    2024
  • 负责人：
    YUICHIRO NAKAI
  • 依托单位：
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    11961141014
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  • 依托单位：
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