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SBIR Phase I: Hybrid holographic lithography for cost-effective fabrication of nanostructures

SBIR 第一阶段：用于经济高效地制造纳米结构的混合全息光刻

基本信息

批准号：
0945327
负责人：
Lin Pang
金额：
$ 15万
依托单位：
Electrooptic Technologies and Application Systems
依托单位国家：
美国
项目类别：
Standard Grant
财政年份：
2010
资助国家：
美国
起止时间：
2010-01-01 至 2010-06-30
项目状态：
已结题

来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=0945327&HistoricalAwards=false
关键词：
SBIR Phase Hybrid holographic lithography

项目摘要

This Small Business Innovation Research Phase I project is to demonstrate a novel nanolithography process, i.e. Hybrid Holographic Lithography (HHL) combining interferometric optical lithography with a Spatial Light Modulator (SLM) imaging technique to enable maskless pattern generation. If successful, the new lithographic method will provide a cost effective means of generating nanostructures that can be applied in many fields.

这个小型企业创新研究第一阶段项目是展示一种新的纳米光刻工艺，即混合全息光刻（HHL）结合干涉光学光刻与空间光调制器（SLM）成像技术，使无掩模图案生成。如果成功的话，新的光刻方法将提供一种具有成本效益的方法来生成可应用于许多领域的纳米结构。

项目成果

期刊论文数量（0）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

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