Zweistrahl-Rastermikroskop mit Elektronen- und Ionenstrahl

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„Die Kombination aus Rasterionen- und Rasterelektronenmikroskopie stellt eine Schlüsseltechnologie der Materialforschung dar. Sie ermöglicht eine hoch ortsaufgelöste Analyse des strukturellen Aufbaus von Werkstoffen und Bauteilen. Der Einsatz dieses Mikroskops ist für zahlreiche Forschungsarbeiten des Instituts und seiner Kooperationspartner von größter Bedeutung. Im Zentrum steht dabei die Untersuchung der mikrostrukturellen Veränderungen als Folge tribologischer Belastung und deren mechanismenbasierte Modellierung. Im Rahmen dieser Arbeiten ist es notwendig die Proben nicht nur an der Oberfläche sondern auch in oberflächennahen Bereichen dreidimensional hinsichtlich Kornorientierung (3D EBSD) und chemischer Zusammensetzung (3D EDS) zu analysieren. Artefaktfreie und reproduzierbare Ergebnisse lassen sich nur erzielen, wenn das Mikroskop durch forschende Wissenschaftler betreut wird, die Zugriff auf und Kontrolle aller Verfahrensschritte haben. Um die Methode effizient in Forschungsvorhaben einbinden zu können, wird hohe Verfügbarkeit und permanenter Zugriff benötigt. Darüber hinaus ist es notwendig, Um- und Anbauten vornehmen zu können, die für die Analyse spezieller Probengeometrien notwendig sind, und nur an einem eigenen, permanent verfügbaren Gerät realisiert werden können.“