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Volta Potential and the Thickness of Oxide Films on Metals

Volta Potential and the Thickness of Oxide Films on Metals
伏特电势和金属上氧化膜的厚度
批准号：
67P6795
负责人：
金额：
$0.0万
依托单位：
Fairfield University
依托单位国家：
美国
项目类别：
财政年份：
1967
资助国家：
美国
项目状态：
已结题
起止时间：
1967-01-01 至 1969-01-01
来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=67P6795&HistoricalAwards=false
关键词：
VoltaPotentialThicknessOxideFilms

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  • 批准号：
    30801141
  • 项目类别：
    青年科学基金项目
  • 资助金额：
    28.0万元
  • 批准年份：
    2008
  • 负责人：
    都书琪
  • 依托单位：
    中国医科大学