Plasma-unterstützte Gasphasendepositionsanlage (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD)

等离子体辅助气相沉积系统（等离子体增强化学气相沉积，PECVD）

• 批准号: 273513748
• 金额: --
• 依托单位: Universität Siegen
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Major Research Instrumentation
• 财政年份: 2015
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 2014-12-31 至 无数据
• 项目状态: 未结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/273513748?language=en
• 关键词: Plasma; unterst; tzte; Gasphasendepositionsanlage; Enhanced

Nanoelektronische Bauelemente auf Basis neuartiger zweidimensionaler (2D) Materialien wie zum Beispiel Graphen oder Übergangsmetall-basierte Dichalcogenide (engl. Transition Metal Dichalcogenides, TMDs) werden derzeit intensiv untersucht. Diese Bauelemente können aber nur dann ernsthaft als Alternative zu bestehenden Technologien herangezogen werden, wenn es gelingt die Materialherstellung skalierbar und kompatibel mit existierender Technologie zu beherrschen. Während noch viele Forschergruppen weltweit mit exfolierten (d.h. auf Mikrometerdimensionen limitierten) 2D Materialien arbeiten, hat sich der Ingenieurwissenschaftlich ausgerichtete Lehrstuhl für Graphen-basierte Nanotechnologie auf großflächige Schichten aus chemischen Gasphasendepositionsprozessen(CVD) fokussiert. Gerade diese Integration mit existierender Technologie ist ein wesentliches Alleinstellungsmerkmal der Arbeitsgruppe. Die hier beantragte Plasma CVD-Anlage soll für Experimente zur Herstellung von qualitativ hochwertigem Graphen und TMDs und deren Bauelemente verwendet werden. Das Plasma CVD Verfahren bietet durch geschickte Wahl geeigneter Gasprekursoren in Kombination mit Plasmaanregung zur Erzeugung benötigter Radikale unvergleichliche Möglichkeiten der Materialkomposition und der Präzision bei gleichzeitiger Absenkung der thermischen Budgets. Das geplante System soll eine PC-Steuerung und eine Vakuumschleuse ("Load Lock") zur kontaminationsfreien Prozessführung enthalten. Eine vergleichbare Anlage ist in Siegen nicht vorhanden.

该公司是世界上全球领导者，并且是世界上全球领导者。该公司还以自己的行动而闻名，目前正在全球提供全球领导者。世界上存在新生活的存在。 The existence of a new life in a state of affairs (d.h. auf Mikrometerdimensional limiter) 2D Materialliance, hating in the Ingenieurwissenschaftlich ausgerichtete Lehrstuhl für Graphen-basierte Nanotechnologie auf großflächige Schichten aus chemischen Gasphasendepositionsprozessen(CVD) Fokussiert。 Gerade Diese集成MIT Existerender Alleinstellungsmerkmal arbeitsgruppe。该公司是新年最新的一年，在体验千载难逢的活动的发展世界中具有很强的影响力。 DAS等离子体CVD Verfahren Bietet Durch geschickte wahl geeigneter gasprekursorence在缓解质量的等离子钓鱼者，CVD-Anllagesollfürherstellung，该公司在体验生活质量的世界中拥有强大的存在。 Präzisionbei gleichzeiter absenkung der thermchen预算的物质。 das geplante系统soll eine eine pc-steuerung und eine vakuumschleuse（“负载锁”）zur kontaminationsfreienprozessführung焓。 siegen nicht vorhanden中的eine vergleichbare anlage ist。