Multispektrales abbildendes Ellipsometer mit integriertem Rasterkraftmikroskop

这是一种基于等离子体的研究，也就是激光-等离子体-混合技术，它是一种特殊的光学改进技术。基本原理是利用Festkörpern（z.B.）Gläsern，Keramiken，Metallen，Halbleitern）.在等离子体光偏转的椭圆偏振分析中，首先要考虑的是在正常印刷条件下，利用双折射光学系统对材料本征值进行测量的方法。最后，通过椭圆偏振法的分析，可以对具有材料反射的大气激光器（在光学平面上只有10 nm）的光栅和激光器进行积分。

Der überwiegende Forschungsanteil ist auf die Plasma,- sowie die Laser-Plasma-Hybridtechnologie, hier im speziellen Oberflächenmodifikationen, ausgerichtet. Grundsätzlich dient das Großgerät der Untersuchung sowie der Aufklärung von Wechselwirkungsmechanismen unterschiedlicher Atmosphärendruckplasmen, sowie von Laser-Plasma-Hybridprozessen mit Festkörpern (z.B. Gläsern, Keramiken, Metallen, Halbleitern). Ein entscheidendes Kriterium für die Auswahl der Ellipsometrie als Analyseverfahren für plasmamodifizierte Oberflächen ist, dass das Messprinzip die berührungslose optische Bestimmung von Materialeigenschaften an Grenzflächen, Oberflächen sowie von Schichtsystemen mit einer Dickenauflösung im nm-Bereich unter Normaldruck erlaubt. Vorteilhaft wirkt sich hierbei aus, dass der Analysebereich der Ellipsometrie, sowie des integrierten Rasterkraftmikroskops und die Wechselwirkungsbereiche von Atmosphärendruckplasmen mit Materialoberflächen (einige 10 nm in die Oberfläche hinein) nahezu identisch sind.