Maskenloser Aligner

所有的物理研究所都是从基础设施到基础设施的过渡，从基础到基础的基础设施，再到基础设施，再到基础设施和设备。这是一种典型的激光平版印刷技术，它可以直接应用于各种衬底材料。这是一件很重要的事情，因为这件事发生了很大的变化，这是一件很重要的事情。在快速成型中，我们不需要快速成型，也不需要单独的快速成型，也不需要更多的材料。这是一种新的工作方式，因为它们的位置不同，它们的位置不同，它们的位置不同。这是一种新型的传感器/ASIC Hybridingbar。

Das beantragte Gerät soll die Infrastruktur des Kirchhoff-Instituts für Physik (KIP) zur Herstellung von Mikrostrukturen im Allgemeinen, speziell aber von Silizium-Photomultipliern, Silizium-basierten Halbleitersensoren, Tieftemperaturteilchendetektoren sowie supraleitenden Quanteninterferenzdetektoren, erweitern. Es besitzt die Eigenschaften eines direktschreibenden Laserlithographen und erlaubt daher die direkte Belichtung der zu strukturierenden Substrate ohne vorherige Herstellung einer Belichtungsmaske. Die Schreibzeiten sind vergleichbar mit den Zeiten, die zur Belichtung eines Substrats mit einem Maskenpositionierer mit vorheriger Maskenausrichtung erforderlich sind; allerdings entfällt die Notwendigkeit der zeit- und kostenintensiven Herstellung von Fotomasken. Dies ermöglicht nicht nur ein Rapid-Prototyping, sondern auch die Verwendung individueller Strukturen, wie zum Beispiel eindeutige Kennzeichnungen, für jedes Substrat. Auch wird es am KIP erstmals die Möglichkeit zur Positionierung von Strukturen auf einem mehr als 2 Zoll großen Substrat bieten und es wird eine Ausrichtung von Strukturen relativ zur Substratrückseite des Substrats (Rückseiten-Alignement) erlauben. Dies ist für die Entwicklung von beidseitig auf einem Substrat aufgebrachten Mikrostrukturen oder für die Entwicklung von Sensor / ASIC Hybridsystemen unabdingbar.