Maskenloser Aligner

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Das beantragte Gerät soll die Infrastruktur des Kirchhoff-Instituts für Physik (KIP) zur Herstellung von Mikrostrukturen im Allgemeinen, speziell aber von Silizium-Photomultipliern, Silizium-basierten Halbleitersensoren, Tieftemperaturteilchendetektoren sowie supraleitenden Quanteninterferenzdetektoren, erweitern. Es besitzt die Eigenschaften eines direktschreibenden Laserlithographen und erlaubt daher die direkte Belichtung der zu strukturierenden Substrate ohne vorherige Herstellung einer Belichtungsmaske. Die Schreibzeiten sind vergleichbar mit den Zeiten, die zur Belichtung eines Substrats mit einem Maskenpositionierer mit vorheriger Maskenausrichtung erforderlich sind; allerdings entfällt die Notwendigkeit der zeit- und kostenintensiven Herstellung von Fotomasken. Dies ermöglicht nicht nur ein Rapid-Prototyping, sondern auch die Verwendung individueller Strukturen, wie zum Beispiel eindeutige Kennzeichnungen, für jedes Substrat. Auch wird es am KIP erstmals die Möglichkeit zur Positionierung von Strukturen auf einem mehr als 2 Zoll großen Substrat bieten und es wird eine Ausrichtung von Strukturen relativ zur Substratrückseite des Substrats (Rückseiten-Alignement) erlauben. Dies ist für die Entwicklung von beidseitig auf einem Substrat aufgebrachten Mikrostrukturen oder für die Entwicklung von Sensor / ASIC Hybridsystemen unabdingbar.