Fabrication of Lead-Free Large Piezoelectric Single Crystals by Novel Rapid Solid-state Crystal Growth Method and Elucidation of the Growth Mechanism
Fabrication of Lead-Free Large Piezoelectric Single Crystals by Novel Rapid Solid-state Crystal Growth Method and Elucidation of the Growth Mechanism
批准号:
21K04661
负责人:
石井 啓介
金额:
$2.66万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2021
资助国家:
日本
项目状态:
未结题
起止时间:
2021-04-01 至 2025-03-31
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英文摘要
(K,Na)NbO3(KNN)の高速固相結晶成長において、0.5%~6%のCuO添加が結晶成長に及ぼす影響を明らかにした。XPS、XPD測定の結果、成長した大型単結晶に隣接する多結晶領域にはCuOおよびCu2Oが偏析していることが判明した。CuO添加量1.5%以下では、CuO添加量と単結晶の成長性とは正の相関を示し、それ以上では、負の相関が観察された。軌道放射光を用いた高精度XRD測定に行ったところ、CuO添加量1.5%以上の仮焼粉中からは CuO相の著しい析出が検出された。この結果より、結晶成長の過程でKNNから排出されたCuが結晶成長界面で第二相による液相を形成すること、この液相は適量であれば原子拡散を促進するが、多すぎると拡散に要する距離が増大し原子の移動を抑制することが示され、添加されたCuOが高速結晶成長法に及ぼす影響と仕組みが見出された。上記に加え、重要な作製パラメータであるBサイト過剰率を従来よりも広い範囲で可変させた結果、0.75 %~1.75 %のBサイト過剰率において単板状単結晶が得られた。特に1.00 %~1.25 %が単板状単結晶の作製に適していることが判明し、昨年度までよりもプロセスウィンドウを大幅に拡大することに成功した。ESR分析から、Bサイト過剰率とBi2O3添加量が仮焼粉中の酸素空孔濃度を変化させることも明らかとなった。酸素空孔濃度は結晶成長を促進させることが知られているため、高速固相結晶成長では酸素空孔濃度の増減を介しBサイト過剰率とBi2O3添加量が結晶成長の活性度を制御している機構が解明された。
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Conditions of large unitary (K, Na)NbO<sub>3</sub> system single crystals for rapid solid-state crystal growth method
大单一(K,Na)NbO<sub>3</sub>系单晶快速固相生长方法的条件
DOI:
10.35848/1347-4065/acbd7b
发表时间:
2023
期刊:
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子:
1.5
作者:
[Morimoto Takaaki, Shimono Seiya, Yoshiichi Yuto, Kishimura Hiroaki, Ishii Keisuke]
通讯作者:
Ishii Keisuke
混合仮焼粉による(K,Na)NbO3系結晶粒の成長促進効果
混合煅烧粉体对(K,Na)NbO3基晶粒的生长促进作用
DOI:
--
发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
--
作者:
[石井啓介, 森本貴明]
通讯作者:
森本貴明
(K,Na)NbO3単結晶の高速固相成長における CuO 添加の役割
添加 CuO 在 (K,Na)NbO3 单晶快速固相生长中的作用
DOI:
--
发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
--
作者:
[森本 貴明, 下野 聖矢, 笹島 宏青, 石井 啓介]
通讯作者:
石井 啓介
高速固相成長した(K,Na)NbO3単結晶におけるCuの偏析
快速固相生长的 (K,Na)NbO3 单晶中 Cu 的偏析
DOI:
--
发表时间:
2021
期刊:
影响因子:
--
作者:
[森本 貴明, 笹島 宏青, 石井 啓介]
通讯作者:
石井 啓介
Effects of Cu addition on rapid solid-state crystal growth of (K,Na)NbO<sub>3</sub> single crystals
Cu添加对(K,Na)NbO<sub>3</sub>单晶快速固相生长的影响
DOI:
10.35848/1347-4065/ac7ea8
发表时间:
2022
期刊:
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子:
1.5
作者:
[Morimoto Takaaki, Shimono Seiya, Yoshiichi Yuto, Kishimura Hiroaki, Ishii Keisuke]
通讯作者:
Ishii Keisuke
共 7 条
アモルファスSiO2の構造不完全性が及ぼす真性絶縁破壊電界への影響
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批准号:08750377
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.64万
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财政年份:1996
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负责人:石井 啓介
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依托单位:
アモルファスSiO_2薄膜中の構造欠陥が電気的・光学的特性に及ぼす影響
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批准号:06750333
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.7万
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财政年份:1994
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负责人:石井 啓介
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依托单位:
海外基金