分子集積技術の高度化に向けた結晶モルフォロジー推定モデルの構築
分子集積技術の高度化に向けた結晶モルフォロジー推定モデルの構築
批准号:
21K05221
负责人:
峯廻 洋美
金额:
$2.66万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2021
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2021-04-01 至 2024-03-31
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英文摘要
本研究では塗布・溶液プロセスによる薄膜デバイス作製において重要となる結晶・薄膜モルフォロジーを推定するためのインフォマティクス技術を、独自のハイスループット晶析技術を駆使した網羅的データ収集とそのデータ科学的分析により構築することを目的としている。R4年度は独自のインクジェット法を活用した網羅的晶析実験を本格的に開始する計画であったが、装置に機能的な不具合の発生が見られたため、これに替わる新規装置の導入と機能設計を最優先に進めた。晶析実験・観察・評価のハイスループット化を目的としたアプリケーション設計(例えば解析・処理・蓄積しやすい形式でのデータ収集・記録用アプリやインクジェット吐出条件最適化アプリ試作等)や、ステージサイズの10倍以上の拡張および温調ステージ設置による一括作製可能なサンプル数の増大により、次年度の実験計画加速の見通しを立てることができた。また材料の晶癖に関する検討を進めるなかで、アルキル化ベンゾチエノベンゾチオフェン誘導体2種について新規にX線結晶構造解析に成功し、アルキル鎖長による系統的な結晶構造変化や層状ヘリンボーン構造の形成とその相転移挙動の議論に重要となる結晶構造データを得た。独自に構築してきたデータベースの分析からも、ベンゾチエノベンゾチオフェンをはじめとしたパイ電子骨格を有する電子材料に関する分子パッキングの系統性や特徴が見出されており、これらの論文化および学会発表に向けた議論を進めた。
期刊论文(3)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
産総研 峯廻HP
AIST峰割HP
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
国立研究開発法人 産業技術総合研究所 電子光基礎技術研究部門 メゾスコピック材料グループHP
产业技术综合研究所 产业技术综合研究所 光电基础技术研究部 介观材料组 HP
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Inkjet Printing of Single-Crystal Films of Organic Molecular Semiconductors for Flexible and Printed Electronics
用于柔性和印刷电子产品的有机分子半导体单晶薄膜的喷墨印刷
DOI:
--
发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
--
作者:
[山口 潤人, 大築 勇斗, 芝崎 祐二, 藤森 厚裕, 田中 裕也・金子 哲・小笠原 郁弥・西野 智昭・穐田 宗隆, Hiromi Minemawari]
通讯作者:
Hiromi Minemawari
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