高光透過性歯科用ジルコニアの接着に関する研究

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①ジルコニア表面に対する、フッ素化合物処理条件フッ素化合物は、常温で安定した粉末状を呈した、二フッ化水素アンモニウム（NH4HF2）およびフッ化水素カリウム（KHF2）を選択した。ジルコニア陶材は従来型の3mol%イットリア部分安定化ジルコニア（3Y-TZP）および光透過性のある6mol%イットリア部分安定化ジルコニア（6Y-PSZ）を選択した。選択した焼付用陶材は、3Y-TZP、6Y-PSZともに同一の材料を使用した。フッ素化合物は、メノウ乳鉢にて粒径約1 umとなるよう粉砕した。エッチング処理条件は、ジルコニア円形試料上にフッ素化合物粉末（100 mg）を載せ、各粉末材料の融点を考慮し、NH4HF2では170℃、KHF2では280℃に加温し処理を行った。エッチング処理後、蒸気洗浄機を用いて15秒清掃を行い試料とした。②ジルコニア処理面の表面分析および表面観察エッチング処理後のジルコニア表面に前装用歯冠色陶材を焼付け、各種ジルコニアに対して接着強度の測定（せん断接着試験）および熱衝撃による接着耐久試験（5－55℃、20,000回）を行った結果、未処理と比してエッチング処理が有意に高いせん断接着強さを示した。このことからジルコニア表面へのフッ素化合物によるエッチング処理が、陶材焼付強度を増加させることが明らかとなっている。フッ素化合物のエッチング処理が、ジルコニア表面の結晶構造に及ぼす影響を明らかにするため、X線回折法（X-ray Diffraction）を用いて分析を行った。3Y-TZPにおいては、フッ化物処理後にも正方晶が観察された。一方、6Y-PSZにおいては、単斜晶系が観察された。電界放出型操作電子顕微鏡による観察では、3Y-TZP、6Y-PSZともに、NH4HF2およびKHF2処理によって、エッチングされた表面が観察された。また新規多層構造ジルコニア材料のX線回折法による分析も行った。