Understanding of Plasma-induced Chemical Reactions at Gas-liquid Interface for the Safety of Plasma Medicine
Understanding of Plasma-induced Chemical Reactions at Gas-liquid Interface for the Safety of Plasma Medicine
了解等离子体引起的气液界面化学反应以保证血浆药物的安全
批准号：
19K14967
负责人：
Tachibana Kosuke
金额：
$2.66万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
财政年份：
2019
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2019-04-01 至 2022-03-31
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直流アルゴンプラズマにより生成された短寿命活性種の気液界面における反応領域
直流氩等离子体产生的短寿命活性物质气液界面的反应区域
直流氩等离子体产生的短寿命活性物质气液界面的反应区域
DOI：
--
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
[本木 慎吾, 河原 源太, 清水 雅樹, 立花 孝介，古木 貴志，市來 龍大，金澤 誠司，内田 諭]
通讯作者：
立花 孝介，古木 貴志，市來 龍大，金澤 誠司，内田 諭
Understanding of chemical reactions induced by argon plasma in contact with sodium halide solutions: importance of surface properties for plasma?liquid interactions
了解氩等离子体与卤化钠溶液接触引起的化学反应：表面特性对于等离子体-液体相互作用的重要性
了解氩等离子体与卤化钠溶液接触引起的化学反应：表面特性对于等离子体-液体相互作用的重要性
DOI：
10.1088/1361-6463/ab5ebe
发表时间：
2020
期刊：
Journal of Physics D: Applied Physics
影响因子：
--
作者：
[Kosuke Tachibana, Koichi Yasuoka]
通讯作者：
Koichi Yasuoka
ハロゲン化ナトリウム水溶液に接する直流アルゴンプラズマのハロゲン・過酸化水素生成特性
直流氩等离子体与卤化钠水溶液接触时卤素和过氧化氢的生成特性
直流氩等离子体与卤化钠水溶液接触时卤素和过氧化氢的生成特性
DOI：
--
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
--
作者：
[H. Sasa, M. Iwakuma,K. Yoshida,S. Sato,T. Sasayama,T. Yoshida, K. Yamamoto, S. Miura, A. Kawagoe,T. Izumi, A. Tomioka, M. Konno, Y. Sasamori, H. Honda, Y. Hase, M. Syutoh, S. Lee , S. Hasuo, M. Nakamura, T. Hasegawa, Y. Aoki, T. Umeno, 末永 智規，立花 孝介，古木 貴志，市來 龍大，金澤 誠司，内田 諭]
通讯作者：
末永 智規，立花 孝介，古木 貴志，市來 龍大，金澤 誠司，内田 諭
プラズマ中の希ガスイオンが水面に衝突する際の挙動に関する分子動力学シミュレーション
等离子体中稀有气体离子与水面碰撞时行为的分子动力学模拟
等离子体中稀有气体离子与水面碰撞时行为的分子动力学模拟
DOI：
--
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
作者：
[稲田 健太, 本木 慎吾, 河原 源太, 立花孝介，小田昭紀，八木一平，内田諭]
通讯作者：
立花孝介，小田昭紀，八木一平，内田諭
Numerical simulation for penetration depth of OH radicals at plasma-liquid interface
等离子体-液体界面OH自由基穿透深度的数值模拟
等离子体-液体界面OH自由基穿透深度的数值模拟
DOI：
--
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Kosuke Tachibana, Takashi Furuki, Ryuta Ichiki, Seiji Kanazawa, Satoshi Uchida]
通讯作者：
Satoshi Uchida
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