気液界面プラズマによる高効率炭素固定プロセスの開発と応用
気液界面プラズマによる高効率炭素固定プロセスの開発と応用
气液界面等离子体高效固碳工艺开发及应用
批准号：
23K23388
负责人：
中村 敏浩
金额：
$3.0万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2024
资助国家：
日本
项目状态：
未结题
起止时间：
2024-02-28 至 2026-03-31
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気液界面プラズマによる高効率炭素固定プロセスの開発と応用
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批准号：22H02120
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额：$11.23万
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财政年份：2022
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负责人：中村 敏浩
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依托单位：
低誘電率層間絶縁膜作製プラズマCVDの表面和周波発生振動分光による診断
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批准号：12750269
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项目类别：Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额：$1.73万
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财政年份：2000
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负责人：中村 敏浩
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依托单位：