Process Development of Electrodeposition of High-purity Si Films using Ionic Liquid based on Molecular-level Analyses of the Reaction Pathway
Process Development of Electrodeposition of High-purity Si Films using Ionic Liquid based on Molecular-level Analyses of the Reaction Pathway
基于反应路径分子水平分析的离子液体电沉积高纯硅薄膜工艺开发
批准号：
19K15301
负责人：
Kunimoto Masahiro
金额：
$2.66万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
财政年份：
2019
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2019-04-01 至 2021-03-31
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次世代表面処理技術開発のための界面反応の理論解析とその実証計測
界面反应的理论分析及其示范测量，用于开发下一代表面处理技术
界面反应的理论分析及其示范测量，用于开发下一代表面处理技术
DOI：
--
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
--
作者：
[小松諒平，鳴海敬倫，牛田晃臣，佐藤大祐, 國本雅宏]
通讯作者：
國本雅宏
量子化学計算による界面反応解析とその実証計測技術開発
基于量子化学计算的界面反应分析及其示范测量技术开发
基于量子化学计算的界面反应分析及其示范测量技术开发
DOI：
--
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
--
作者：
[國本雅宏]
通讯作者：
國本雅宏
DOI：
10.4139/sfj.71.184
发表时间：
2020
期刊：
Journal of The Surface Finishing Society of Japan
影响因子：
--
作者：
[中村 尚人, 後藤 陽介, 水口 佳一, 濱田真行, 國本雅宏，本間敬之]
通讯作者：
國本雅宏，本間敬之
量子化学計算とラマン分光計測を応用した電解/無電解めっき反応の解析
使用量子化学计算和拉曼光谱测量分析电解/化学镀反应
使用量子化学计算和拉曼光谱测量分析电解/化学镀反应
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[中川 祐貴, 木村 智遥, 礒部 繁人, 柴山 環樹, 岡田健司, 國本雅宏]
通讯作者：
國本雅宏
イオン液体を用いたSi薄膜形成に対するパルス電析条件の影響の検討
研究脉冲电沉积条件对离子液体硅薄膜形成的影响
研究脉冲电沉积条件对离子液体硅薄膜形成的影响
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[笠松秀輔, 杉野修, 小川貴史, 桑原彰秀, 福住康太，國本雅宏，渡貫修永，福中康博，本間敬之]
通讯作者：
福住康太，國本雅宏，渡貫修永，福中康博，本間敬之
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