Fabrication and understanding the interface junction between atomic layers and 3D solids
制造并理解原子层和 3D 实体之间的界面连接
基本信息
- 批准号:19K15393
- 负责人:
- 金额:$ 2.66万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
- 财政年份:2019
- 资助国家:日本
- 起止时间:2019-04-01 至 2021-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(15)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
究極的に細い原子細線からなる大面積薄膜を実現 ~次世代の電子・エネルギーデバイス応用に期待~
最终实现由细原子线制成的大面积薄膜 - 有望用于下一代电子和能源设备应用 -
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
Interface Growth of Molybdenum Disulfide
二硫化钼的界面生长
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Hong En Lim;Toshifumi Irisawa;Naoya Okada;Takahiko Endo;Yusuke Nakanishi;Yutaka Maniwa and Yasumitsu Miyata
- 通讯作者:Yutaka Maniwa and Yasumitsu Miyata
Wafer-Scale Growth of One-Dimensional Transition-Metal Telluride Nanowires
一维过渡金属碲化物纳米线的晶圆级生长
- DOI:10.1021/acs.nanolett.0c03456
- 发表时间:2020
- 期刊:
- 影响因子:10.8
- 作者:Lim Hong En;Nakanishi Yusuke;Liu Zheng;Pu Jiang;Maruyama Mina;Endo Takahiko;Ando Chisato;Shimizu Hiroshi;Yanagi Kazuhiro;Okada Susumu;Takenobu Taishi;Miyata Yasumitsu
- 通讯作者:Miyata Yasumitsu
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
LIM HONGEN其他文献
LIM HONGEN的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}