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Study of positive muons in metal films at low temperatures

Study of positive muons in metal films at low temperatures
低温金属薄膜中正介子的研究
批准号：
19K21867
负责人：
Nagashima Yasuyuki
金额：
$4.16万
依托单位：
Tokyo University of Science
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
财政年份：
2019
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2019-06-28 至 2021-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-19K21867/
关键词：
正ミュオン陽電子電子低温ミュオンミュオニウムポジトロニウム低温金属再放出超低速ミュオン低温金属薄膜最放出超低速ミュオンビーム拡散

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極低温タングステンからの低速ミュオン生成実験
低温钨慢速产生μ子实验
DOI： --
发表时间： 2020
期刊：
影响因子： --
作者： [永田祐吾, 有留翔一, 神田聡太郎, 門野良典, 下村浩一郎, 長嶋泰之]
通讯作者： 長嶋泰之
New developments of fundamental and applied researches on positronium neutral atoms and positronium negative ions
  • 批准号：
    17H01074
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
  • 资助金额：
    $27.71万
  • 财政年份：
    2017
  • 负责人：
    Nagashima Yasuyuki
  • 依托单位：
    Tokyo University of Science
Evolution of positronium beam science using the technique of photodetachment of positronium negative ions
  • 批准号：
    24221006
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (S)
  • 资助金额：
    $139.36万
  • 财政年份：
    2012
  • 负责人：
    Nagashima Yasuyuki
  • 依托单位：
    Tokyo University of Science
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