二次元IV族原子層の選択的元素置換による熱電変換用新ディラック材料の開発
通过二维 IV 族原子层中的选择性元素替代开发用于热电转换的新型狄拉克材料
基本信息
- 批准号:20J10412
- 负责人:
- 金额:$ 1.09万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
- 财政年份:2020
- 资助国家:日本
- 起止时间:2020-04-24 至 2022-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
IoTセンサ電源として環境調和型の高性能熱電薄膜の実現が求められている。本研究では、層状物質であるCaSi2に着目し、エピタキシャルCaSi2薄膜中にドーピングを施すことで、熱電出力因子の向上と熱伝導率の同時低減を達成することを目的とする。まず、CaSi2へのSn元素置換を行い、CaSi2へのSnドーピングに世界で初めて成功したまた、Snの導入量を増加させるにつれ、Ca層間距離が大きくなっていることを解明した。しかし、このSnドープCaSi2はアイランド形状で成長し、目的の薄膜構造では形成できなかった。熱電応用に向けた薄膜化が今後の課題である。そこで、元素導入ではなく、CaSi2相構造の変化で性能向上ができるのではないかと着想し、その研究に舵を切った。CaSi2では安定相と準安定相が存在し、それぞれでシリセンの構造が異なることが分かっているが、これに依存した熱電特性は明らかになっていない。そこでまず、共同研究により第一原理計算とボルツマン輸送方程式を用いて、準安定相の熱電性能を予測した結果、大幅な性能向上が期待できることが分かった。また、この相変化はバルクCaSi2においては、真空中で加熱することで生じることが分かっている。そこで、形成したエピタキシャルCaSi2薄膜を超高真空中でアニールすることで相変化を狙った。結果として、相変化はしなかったものの、なぜか熱電出力因子の向上を観測した。この結果は、結晶性向上では説明できるものではなく、相変化に匹敵するシリセン構造変調が起きている可能性を示唆している。これらの結果から、SnドープCaSi2のアイラインド成長の観測とCaSi2相変化に着目した熱電特性向上の成果を得ることに成功した。
The realization of high performance thermoelectric thin films for IoT power supply and environmental harmony In this study, layered CaSi2 films were used to improve the thermal conductivity of CaSi2 films. The results show that the Sn element substitution of CaSi2 +, the Sn content of CaSi2 + and the interlayer distance of Ca increase. CaSi2 film structure is formed in the shape of a thin film. The future problem of thermoelectric thin film application Element introduction, CaSi2-phase structure transformation, performance upward, research and development CaSi2 has both stable and quasi-stable phases, and its structures are different. However, they are dependent on each other, and their thermoelectric characteristics are obvious. First principles calculations, transfer equations, quasi-steady phase thermoelectric performance predictions, large performance expectations Heat in vacuum, heat in vacuum. The formation of CaSi2 thin films in ultra-high vacuum The results show that the thermoelectric power factor is measured upward. These results indicate the possibility of structural transition from crystalline to crystalline. As a result, the growth of CaSi2 was successfully measured and the thermoelectric characteristics were improved.
项目成果
期刊论文数量(8)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Giant Enhancement of Seebeck Coefficient by Deformation of Silicene Buckled Structure in Calcium-Intercalated Layered Silicene Film
- DOI:10.1002/admi.202101752
- 发表时间:2021-11-25
- 期刊:
- 影响因子:5.4
- 作者:Terada, Tsukasa;Uematsu, Yuto;Nakamura, Yoshiaki
- 通讯作者:Nakamura, Yoshiaki
Caインターカレーションを用いたバックリング構造変調シリセンの創製とその熱電特性
利用Ca插层制备屈曲结构调制硅烯及其热电性能
- DOI:
- 发表时间:2022
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:小島 幹央;寺田 吏;石部 貴史;成瀬 延康;小林 英一;中村 芳明
- 通讯作者:中村 芳明
エピタキシャルCaSi2薄膜中のシリセンバックリング構造変形による熱電出力因子増大
外延 CaSi2 薄膜中硅烯屈曲结构变形导致热电功率因数增加
- DOI:
- 发表时间:2022
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:寺田 吏;上松 悠人;石部 貴史;成瀬 延康;Nguyen Tien Quang;佐藤 和則;中村 芳明
- 通讯作者:中村 芳明
バルクCaSi2への準安定相導入による熱電出力因子増大
通过在块状 CaSi2 中引入亚稳态相来提高热电功率因数
- DOI:
- 发表时间:2022
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:寺田 吏;石部 貴史;Nguyen Tien Quang;佐藤 和則;中村 芳明
- 通讯作者:中村 芳明
フェルミレベル制御によるエピタキシャルCaSi2薄膜の高出力因子化
费米能级控制外延CaSi2薄膜的高功率因数
- DOI:
- 发表时间:2020
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:寺田 吏;上松 悠人;石部 貴史;小林 英一;中村 芳明
- 通讯作者:中村 芳明
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- 影响因子:0
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- 发表时间:
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- 影响因子:0
- 作者:
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